Contacto
Leave Your Message

ML-NEBULA: Equipamento de I+D multifeixe de nanoestrutura láser de femtosegundos

Todo avance científico xorde do desafío dos límites. No mundo dos micróns, submicróns e mesmo nanómetros, a precisión das ferramentas define a profundidade da exploración. MONO axuda a todos os científicos e enxeñeiros a manterse á vangarda na investigación, utilizando a tecnoloxía de micromecanizado láser de femtosegundos máis avanzada para converter con precisión as túas ideas en realidade.

ML-NEBULA é un equipo de I+D multidimensional con nanoestrutura láser de femtosegundos especialmente deseñado para I+D multifuncional e de alta precisión. É unha opción ideal para laboratorios científicos e centros de I+D que precisan alternar entre varias tarefas e buscar solucións flexibles e de extrema precisión. O equipo ofrece capacidades de micromecanizado a nanoescala, desde o tratamento de superficies ata a escritura directa interna, desde a produción de prototipos ata a produción en lotes pequenos, todo pódese completar cunha soa máquina.

❑ Fabricación de microestruturas e nanoestruturas de superficie funcional

❑ Procesamento de escritura directa con guía de ondas ópticas

❑ Fabricación de chips microfluídicos

❑ Litografía de rede de ancho de liña a nanoescala

❑ Procesamento de diafragmas de fenda/diafragmas de apertura

    Características dos produtos

    • Fonte láser de femtosegundos personalizable de grao industrial (2)

      Admite o procesamento composto de rutas multiópticas e multifoco;

    • Capacidades de conformación e control de feixes multidimensionais

      Funcións de conformación e control de feixes multidimensionais;

    • Monitorización en tempo real do apuntamento e a calidade do feixe

      Directividade do feixe e detección da calidade 24/7;

    • Plataforma base superior mecánica e termicamente estable

      Base de equipamento excelente, mecánica e térmicamente estable;

    • Sistema de control multifuncional de alta resposta dinámica

      Precisión de procesamento que abrangue escalas nanométricas, submicrométricas e micrométricas;

    • Sistema de entrega de feixe e ruta óptica totalmente selado

      Sistema de control preciso da enerxía de pulso a nivel de nanojulios;

    • Mecanizado de precisión multieixe coordinado para superficies 3D

      Precisión de posicionamento a nanoescala;

    • Sistema integral de prevención de colisións en 3D

      Procesamento de precisión de articulación multieixe.

    Produtos destacados

    imaxe

    Preparación de microestruturas de superficie funcional

    Emprégase para desenvolver micro-nanoestruturas superficiais con propiedades ópticas especiais (como metalenses, control de polarización), mecánicas (como superhidrófobas, autolimpables) e eléctricas (como eléctrodos flexibles, sensores). Apoia a investigación de vangarda en campos como a ciencia dos materiais e a enxeñaría de interfaces.
    imaxe

    Escritura directa en guías de ondas ópticas: fabricación de chips microfluídicos

    Crea estruturas de camiños ópticos en 3D dentro de materiais transparentes como vidro e cristais. Adecuado para I+D de chips fotónicos integrados e sensores de fibra óptica, así como para o procesamento de precisión de microcanais, mesturadores e cámaras de reacción en sistemas microfluídicos.
    imaxe

    Escritura con reixa de ancho de liña a nanoescala

    Desenvolve instrumentos ópticos de última xeración (como espectrómetros, sensores de reixa) e dispositivos de almacenamento de información (como unidades de almacenamento a nanoescala). Realiza a escritura de alta precisión de reixas de ancho de liña a nanoescala, superando o límite de resolución das tecnoloxías de procesamento tradicionais.
    imaxe

    Procesamento de fenda/diafragma de alta precisión

    Ofrece compoñentes de diafragma e fenda de alta precisión para sistemas ópticos (como máquinas de litografía, microscopios) e instrumentos de precisión (como detectores de partículas), garantindo a estabilidade do rendemento e a consistencia da precisión dos dispositivos ópticos.

    Especificacións técnicas

    Elemento

    Detalles

    Láser

    Láser de femtosegundos (1030/515/343 nm)

    Área de procesamento

    500 mm × 500 mm

    30 mm × 30 mm

    Precisión de posicionamento (X/Y/Z)

    Tipos de materiais procesables

    Superficies planas, cilíndricas, esféricas, curvas en 3D, etc., combinación personalizable

    Procesando contidos

    Gravado con profundidade controlada, corte sen carbono, perforación de orificios pasantes, nanofabricación, etc.
    combinación personalizable

    Diámetro mínimo do orificio

    ≥500nm, personalizable segundo sexa necesario

    Largura mínima de liña procesable

    ≥300nm, personalizable segundo sexa necesario

    Rango de diámetro de orificio procesable

    ≥200nm, personalizable segundo sexa necesario

    Precisión do diámetro do burato

    ≥±50nm, personalizable segundo sexa necesario

    Exemplos de aplicación

    Espectrómetro de masas de 15 μm con corte por fenda de conicidade 0

    Espectrómetro de masas de 15 μm con corte por fenda de conicidade 0

    Escritura directa de reixa MONO

    Escritura directa de reixa MONO: ancho de liña 0,449 μm

    Para chips microfluídicos (Lab-on-a-Chip), o noso equipo ML-NEBULA non só grava canais en superficies de vidro, senón que tamén admite a impresión directa con láser.

    Gravado de microcanles de chips microfluídicos MONO

    Perforación submicrónica mono

    Perforación submicrónica monomérica: buratos de 148 nm

    01

    contact us

    Start a Conversation

    Ready to solve your precision challenges? Fill out the form below and our team will respond within 24 hours.

    Contact information

    Address

    F1-F2, Building 4, Jianfa-Xinmei Industrial Park, No. 21 Gongtang Road, Guangming District, Shenzhen, China.

    1647831b1f9f653d5ce88b0294a12170
    yx-contact-bg